Zeiss: China hinkt bei Chip-Prozesstechnik 15 Jahre hinterher
China liegt nach Einschätzung eines führenden Managers des deutschen Technologiekonzerns Zeiss bei der Entwicklung modernster Anlagen zur Chipfertigung rund 15 Jahre hinter der internationalen Spitze zurück.
EUV-Lithografie gilt als Schlüsseltechnologie für die Fertigung besonders leistungsfähiger Halbleiter. Die dafür benötigten Anlagen werden weltweit bislang ausschließlich vom niederländischen Hersteller ASML produziert. Zeiss liefert als einziger Anbieter die hochpräzise Optik für diese Maschinen.
Die Einschätzung von Rohmund deckt sich weitgehend mit einer aktuellen Analyse der Schweizer Großbank UBS. Deren Experten gehen davon aus, dass China noch mindestens zehn Jahre von einer eigenen EUV-Technologie entfernt ist. Peking investiert allerdings seit Jahren massiv in die heimische Halbleiterindustrie, um unabhängiger von ausländischen Zulieferern zu werden.
Die USA versuchen derweil, Chinas Zugang zu modernster Chiptechnologie mit Embargo-Maßnahmen einzuschränken. ASML darf seine fortschrittlichsten Anlagen nicht nach China liefern. Auch für bestimmte leistungsfähigere Maschinen der älteren DUV-Technologie gelten Exportbeschränkungen.
Wie leistungsfähig die neuen chinesischen Systeme tatsächlich sind, müsse sich erst noch zeigen, sagte Rohmund. "Wir sind immer noch weit voraus", betonte er. Zeiss zufolge werden Komponenten des Unternehmens bei der Herstellung von rund 80 Prozent der weltweit produzierten Chips eingesetzt. ASML hält seit 2017 eine Minderheitsbeteiligung an der Halbleitersparte von Zeiss. Wegen der stark wachsenden Nachfrage durch den KI-Boom baut Zeiss seine Produktionskapazitäten am Stammsitz in Oberkochen aus und errichtet zusätzlich eine weitere Fabrik.
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EUV-Anlagen noch in weiter Ferne
Es sei eine "vernünftige Annahme", dass Peking etwa anderthalb Jahrzehnte benötigen werde, um eigene Maschinen für die Extrem-Ultraviolett-Lithografie (EUV) zu entwickeln, sagte Frank Rohmund, Leiter der Halbleitersparte von Zeiss, im Gespräch mit der Nachrichtenagentur Bloomberg. Zugleich sei der tatsächliche Stand der chinesischen Entwicklung nur schwer einzuschätzen.EUV-Lithografie gilt als Schlüsseltechnologie für die Fertigung besonders leistungsfähiger Halbleiter. Die dafür benötigten Anlagen werden weltweit bislang ausschließlich vom niederländischen Hersteller ASML produziert. Zeiss liefert als einziger Anbieter die hochpräzise Optik für diese Maschinen.
Die Einschätzung von Rohmund deckt sich weitgehend mit einer aktuellen Analyse der Schweizer Großbank UBS. Deren Experten gehen davon aus, dass China noch mindestens zehn Jahre von einer eigenen EUV-Technologie entfernt ist. Peking investiert allerdings seit Jahren massiv in die heimische Halbleiterindustrie, um unabhängiger von ausländischen Zulieferern zu werden.
Die USA versuchen derweil, Chinas Zugang zu modernster Chiptechnologie mit Embargo-Maßnahmen einzuschränken. ASML darf seine fortschrittlichsten Anlagen nicht nach China liefern. Auch für bestimmte leistungsfähigere Maschinen der älteren DUV-Technologie gelten Exportbeschränkungen.
Zeiss baut aus
Eine weitere Ausweitung dieser Kontrollen auf weniger moderne DUV-Anlagen hält Rohmund allerdings für kontraproduktiv. Solche Maßnahmen könnten Chinas eigene Entwicklung sogar beschleunigen, warnte er. Bei der Produktion von DUV-Lithografiesystemen habe China bereits Fortschritte gemacht. Ein Unternehmen aus Shanghai soll entsprechende Immersionsanlagen herstellen. An den dafür notwendigen Technologien arbeite das Land allerdings bereits seit Jahrzehnten.Wie leistungsfähig die neuen chinesischen Systeme tatsächlich sind, müsse sich erst noch zeigen, sagte Rohmund. "Wir sind immer noch weit voraus", betonte er. Zeiss zufolge werden Komponenten des Unternehmens bei der Herstellung von rund 80 Prozent der weltweit produzierten Chips eingesetzt. ASML hält seit 2017 eine Minderheitsbeteiligung an der Halbleitersparte von Zeiss. Wegen der stark wachsenden Nachfrage durch den KI-Boom baut Zeiss seine Produktionskapazitäten am Stammsitz in Oberkochen aus und errichtet zusätzlich eine weitere Fabrik.
Zusammenfassung
- Zeiss schätzt Chinas Rückstand bei moderner Chiptechnik auf 15 Jahre
- EUV-Lithografiesysteme fertigt bisher ausschließlich ASML mit Zeiss
- Die Schweizer Großbank UBS rechnet mit mindestens zehn Jahren Verzug
- Ausgeweitete US-Sanktionen könnten Chinas Fortschritte beschleunigen
- Wegen des KI-Booms baut Zeiss seine Kapazitäten in Oberkochen aus
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Christian Kahle
Redakteur bei WinFuture
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