Samsung: Erstes reines EUV-Werk für 7 bis 3 Nanometer ist fertig
Infografik EUV: Neues Licht für schnelle Chips

Mit dem Bau der neuen Fabrik hatte Samsung bereits vor zwei Jahren begonnen. Nach einer Investition von bisher rund 6 Milliarden Dollar kann man nun damit beginnen, auch Einnahmen zu erzielen. Dies zeigt, wie schwierig der Umgang mit der neuesten Prozesstechnologie inzwischen ist. Es ist kleineren Unternehmen im Grunde kaum möglich, in der Fertigung auf vergleichbarem Niveau mitzuhalten - schlicht weil man gar nicht in der Lage wäre die Investitionen zu stemmen.
Daher konzentriert sich ein immer größerer Teil der Halbleiter-Produktion bei wenigen großen Werksbetreibern und auch Samsung ist schon lange dazu übergegangen, auch als Auftragsfertiger tätig zu sein. Dem dürfte auch die Kapazität der neuen Fabrik dienen. Denn die V1 genannte Anlage soll in der Lage sein, die Kapazitäten zur Herstellung von 7-Nanometer-Chips zu verdreifachen. Das wird allerdings erst gegen Ende dieses Jahres der Fall sein, wenn sich die neue Fabrik ihrer vollen Leistungsfähigkeit annähert.
Erste reine EUV-Anlage
Die V1 ist Samsungs erste Fertigungslinie, in der ausschließlich Lithographie-Maschinen arbeiten, die mit extrem-ultraviolettem Licht (EUV) funktionieren. In den anderen Werken stellten diese bisher lediglich die High End-Ergänzungen zu den normalen Systemen dar, mit denen man allerdings nur bis 10 Nanometer herunterkam.Durch die Konzentration auf EUV-Prozesse kann das neue Werk in diesem Bereich wesentlich effizienter arbeiten. Das ist auch unbedingt nötig, damit Samsung in annehmbarer Zeit auf einen Stand kommt, an dem sich die enormen Investitionen auch bezahlt machen. Als weiterer großer Anbieter im EUV-Bereich ist aktuell nur TSMC zu nennen. Auch der Auftragsfertiger investiert Milliardenbeträge in entsprechende Anlagen. Aber auch Intel hofft, bald nachziehen zu können.
Siehe auch: Samsung verschickt schon Design-Kits für 3-Nanometer-Chips
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