Intel setzt als erster Chiphersteller AMSLs neueste Technologie ein

Intel bringt als erster Chiphersteller weltweit die neueste Fertigungstechnologie des niederländischen Maschinenherstellers ASML zum Einsatz: Die High-NA-EUV-Lithografie wurde jetzt in der Serienfertigung eines kommerziellen Logikprodukts überführt.

Deutlich feinere Lithografie

Wie ASML mitteilte, werden ausgewählte Schichten von Prozessoren der Intel-Core-Ultra-Series-3-Familie ("Panther Lake") bereits mit der neuen Fertigungstechnologie hergestellt. Die Produktion erfolgt im Intel-Werk im US-Bundesstaat Oregon auf Basis des 18A-Fertigungsprozesses.

Nach Angaben ASMLs kommen die neuen High-NA-EUV-Anlagen zunächst nur für bestimmte Fertigungsschritte zum Einsatz. Der überwiegende Teil der Chips wird weiterhin mit der bisherigen EUV-Lithografie produziert. Die entsprechenden Prozessschichten sind jedoch so ausgelegt, dass sie sowohl auf den bisherigen EUV-Systemen als auch auf den neuen High-NA-Anlagen gefertigt werden können. Dadurch bleiben die produzierten Wafer austauschbar, während Intel die neue Technik schrittweise in die Massenproduktion integriert.


High-NA-EUV gilt als nächste Entwicklungsstufe der modernen Chipfertigung. Wie die aktuelle EUV-Technologie arbeitet sie mit ultraviolettem Licht einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern. Der entscheidende Unterschied liegt in der höheren Apertur der Optik: Sie steigt von 0,33 auf 0,55 und ermöglicht dadurch feinere Strukturen in einem einzigen Belichtungsschritt. Das soll die Herstellung kleinerer und dichter gepackter Schaltungen erleichtern sowie den Aufwand für aufwendige Mehrfachbelichtungen verringern.

Schrittweise Ausweitung

Von dieser höheren Präzision versprechen sich Halbleiterhersteller langfristig eine höhere Transistordichte, effizientere Fertigungsprozesse und leistungsfähigere Prozessoren. ASML-Chef Christophe Fouquet sprach von einem bedeutenden Fortschritt für die Halbleiterindustrie. Die höhere Auflösung und die bessere Prozesskontrolle würden die Entwicklung zukünftiger Chipgenerationen beschleunigen und den Weg für neue Anwendungen ebnen.

Intel und ASML arbeiten bereits seit mehreren Jahren an der Einführung der Technologie. Bereits 2024 installierte Intel eines der ersten kommerziellen High-NA-EUV-Systeme vom Typ TWINSCAN EXE:5000 in seinem Forschungszentrum in Hillsboro. Später folgte die Qualifizierung der leistungsfähigeren zweiten Generation EXE:5200B.

Die aktuelle Ankündigung bedeutet allerdings nicht, dass Panther-Lake-Prozessoren vollständig mit High-NA-EUV gefertigt werden. Vielmehr handelt es sich um den üblichen schrittweisen Einstieg in eine neue Lithografie-Generation. Intel plant, den Einsatz der Technologie stetig auszuweiten. Bereits der kommende Fertigungsprozess Intel 14A soll High-NA-EUV bei besonders anspruchsvollen Prozessschritten in größerem Umfang nutzen.


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