Intel: Vierte Fab rüstet sich für das 45-nm-Verfahren

Der Prozessorhersteller Intel rüstet nun die vierte Halbleiter-Fabrik (Fab) in Neu Mexiko für über eine Milliarde US-Dollar auf, so dass sie neben den Standorten in Oregon, Arizona und Israel ebenfalls im neuen 45-Nanometer-Verfahren produzieren kann. Die Werke in Oregon und Arizona werden derzeit schon für die Serienproduktion der 45-Nanometer-Wafer vorbereitet. Bereits im Sommer sollen sie die Produktion aufnehmen. Israel folgt dann 2008 mit der Fab 28, noch später nimmt dann die Fab 11X in Rio Rancho den Betrieb auf.

Fab 11X wurde gegen Ende des Jahres 2002 in Betrieb genommen. Damals handelte es sich um das größte Halbleiter-Werk der Welt, dass für eine Produktion im 130-Nanometer-Verfahren ausgelegt war. Im Jahr 2003 wurde dann umgebaut, um im 90-Nanometer-Verfahren produzieren zu können. Nun steht dem einst größten Werk ein erneuter Umbau bevor.

In Rio Racho soll die neue Prozessor-Familie Penryn hergestellt werden, deren CPUs sowohl in Servern, Notebooks und Desktop-Rechnern zum Einsatz kommen werden. Im Jahr 2009 steht dann ein erneuter Umbau auf das 32-Nanometer-Verfahren an. Es ist allerdings noch nicht bekannt, welche Werke dies betreffen wird.