Intel haucht Mooreschem Gesetz neues Leben ein
Bei der Herstellung der Prozessoren setzt Intel derzeit auf ein Verfahren mit einer Strukturbreite von 65 Nanometer. Bei der Umstellung auf 45 Nanometer läuft man Gefahr, so genannte Leckströme zu provozieren. Ein silberfarbiges Metall namens Hafnium soll dies nun verhindern und somit für einen problemlosen Umstieg auf das 45-nm-Verfahren sorgen. Zwei weitere Metalle, die das bisher eingesetzte Siliziumdioxid und Silizium ablösen, will Intel aus Wettbewerbsgründen nicht verraten.
Durch diese neue Technik kann Intel die Größe der Chips halbieren, aber trotzdem mehr Transistoren unterbringen. Noch in diesem Jahr will man die ersten Prozessoren vorstellen, die davon Gebrauch machen. Mark Bohr, Leiter der Abteilung für Halbleiterfertigung bei Intel, sagte, dass es sich bei diesem Durchbruch um die größte Veränderung in der Transistor-Technik seit den 60er Jahren handelt.
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Michael Diestelberg
Redakteur bei WinFuture
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