Samsung vermeldet enorme Fortschritte bei Prozesstechnik für 5nm
Allein die Verschiebung bestehender Architekturen auf die neue Fertigungstechnologie kann nach Angaben Samsungs bis zu 25 Prozent Effizienzsteigerung mitbringen. Der überwiegende Teil entfällt dabei auf eine Einsparung von Energie in Höhe von rund 20 Prozent. Durch die Optimierung von Prozessen lassen sich aber auch bis zu 10 Prozent mehr Performance aus der gleichen Architektur holen. Die Werte gelten dabei jeweils im Vergleich zur 7-Nanometer-Produktion, die nun schon einige Monate in der Massenfertigung läuft.
Auch 6nm steht bereit
Als Zwischenschritt wird Samsung auch die Fertigung von Chips in 6-Nanometer-Strukturen anbieten. Die dafür nötige Prozesstechnik ist im Grunde auch schon fertig und wurde in Zusammenarbeit mit ersten Kunden auch schon bis in die Tape-Out-Phase gebracht. Hier können nun also demnächst schon erste Serien vom Band laufen.Die Basis all dessen ist Samsungs klare Entscheidung für einen umfassenden Umstieg auf die EUV-Lithopgraphie. Diese ermöglicht es die Wafer mit Strahlung zu belichten, die in den Wellenlängen kurz genug ist, um solch feine Strukturen direkt auf das Substrat zu übertragen. Hingegen rühren Intels jüngste Probleme daher, dass man noch mit größeren Wellenlängen arbeitet und hier teilweise mehrere Belichtungsschritte vollzogen werden müssen, um die Designs klar genug belichtet zu bekommen.
Siehe auch: Samsung: Wir schaffen bei unseren Chips noch vier Moore-Generationen
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