Intel kann mit Bau von 4-Mrd.-Dollar-Werk starten

Der Chiphersteller Intel hat die Baugenehmigung für sein geplantes neues Werk in Irland erhalten. Insgesamt rund 4 Milliarden Dollar will der Konzern in den Bau der Produktionsanlage investieren.

Binnen zwei Jahren soll hier ein Fertigungskomplex entstehen, der für die Produktion von Schaltkreisen in der kommenden Architektur mit 14 Nanometern Strukturweite ausgelegt ist. Während der Bauphase soll das Projekt rund 3.500 Arbeitsplätze in Anspruch nehmen. Nach der Fertigstellung werden etwa 800 Vollzeitbeschäftigte in der Fabrik arbeiten, berichtete das Magazin 'Silicon Republic'.

Das neue Werk wird in Kildare, in der Nähe von Dublin, angesiedelt sein. An diesem Standort ist Intel schon jetzt mit rund 4.000 Mitarbeitern vertreten. Die Anlage ist eine Weiterentwicklung der ebenfalls nicht weit entfernten Fab 14, die in Leixlip steht und im Jahr 2011 entstand.


Die Umsetzung des Projektes hat sich bis jetzt schon um einige Monate verzögert. Die Lokalverwaltung von Kildare hatte Intel eigentlich schon im August 2012 die Genehmigung für den Baubeginn erteilt. Allerdings hatte die irische Infrastruktur-Planungsbehörde An Bord Pleanala, die auch die wirtschaftliche Entwicklung des Landes planmäßig vorantreibt, Einwände. Diese können nun nach einigen Anpassungen im Konzept als erledigt angesehen werden.

Die neue Produktionsanlage wird auf dem bereits Intel gehörenden Gelände in Kildare gebaut. Hier werden die bereits vorhandenen Bauten für Aufgaben wie die Verwaltung gleich mitgenutzt. So können nach den derzeitigen Planungen fast 250.000 Quadratmeter neuer Fläche für die Fertigung genutzt werden. 100.000 Quadrameter stehen dabei für die eigentlichen Fertigungsanlagen zur Verfügung. Der übrige Teil dient beispielsweise als Lagerfläche für verschiedene Chemikalien, die für die Produktion benötigt werden, sowie von Abfallprodukten.

Die neue Fab wird einer von weltweit drei Standorten, die Intel für die Einführung der 14-Nanometer-Produktion vorgesehen hat. Die anderen liegen in den US-Bundesstaaten Oregon und Arizona.
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14 nanometer.... was sie wohl machen wenn sie nicht mehr kleiner werden können
 
@DNFrozen: Das was man jetzt auch schon macht, man nimmt eine effektive Länge. z.B. Sind die Dicken der Gateoxide schon bei effektiven 2nm, was bei einem normalen Siliziumoxid einfach nur mist wäre (Quanteneffekte, Tunnelströme). Deshalb nimmt man ein neues Material, die high k Materialen (eigentlich high kappa aber die Amis habens nicht so mit griechischen Buchstaben (und schon garnicht mit SI Einheiten)). Die neue Materialien verhalten sich wie ein 2nm Siliziumoxid (ohne böse effekte), sind aber dicker.
 
@DNFrozen: Chips werden dann dreidimensional aufgebaut
 
Was das genau für Einwände von der irischen Infrastruktur-Planungsbehörde waren hätte mich echt interessiert, schade das es dazu keine Infos im Text gibt.
 
3D-Transistoren werden ja längst verbaut, Stichwort "Tri-Gate". Während sich AMD bedeckt hält, was die weitere Verkleinerung betrifft freue ich mich auf weitere Innovationen von Intel!


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