Intel stößt in den 15-Nanometer-Bereich vor

Dem Chiphersteller Intel ist es gelungen, das Lithographie-Verfahren zur Übertragung von Chip-Strukturen auf einen Silizium-Wafer auf eine Strukturbreite von 15 Nanometern zu reduzieren.

Bei der im Labor so weiterentwickelten Technik handelt es sich um die so genannte Extreme Ultraviolet (EUV)-Lithographie. Diese kommt auch bei der Produktion der aktuellen 45-Nanometer-Chips zum Einsatz. Zum Jahresende will man in ersten Bereichen auf 32 Nanometer wechseln.


Die kleinsten Strukturen, die bisher mit EUV unter Laborbedingungen geschaffen werden könnten, lagen bei 24 Nanometern. Die 15-Nanometer-Technologie befindet sich den Angaben zufolge erst im Anfangsstadium ihrer Entwicklung. Chips könnten mit ihr heute noch nicht hergestellt werden.

Den Forschern bei Intel ist es erst gelungen, einfache Linien auf einem Wafer abzulichten. Bis man auch die komplexen Strukturen eines Prozessors abbilden kann, ist es noch ein gutes Stück des Weges.